Технологические источники ионов на основе контагированных разрядов
Book information
Description
Статья. Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2006, № 4, с. 55-58Обеспечивается создание ускоренных пучков ионов с токами до 0,6 А и энергиями до 5 кэВ с равномерным распределением плотности тока ионов в поперечном сечении пучков площадью от 10~4 до 0,2 м2.Целью настоящей работы является оптимизация разрядной камеры с использованием специфических особенностей ДЭС (двойного электрического слоя).
Similar books
Metallic films for triggering vacuum-arc plasma sources
Стационарные электрические разряды с испаряющимся в вакууме электродом
Зондовый метод диагностики плазмы
DJVU
Холловский торцевой ускоритель плазмы с холодным катодом
Экспериментальное исследование процессов вакуумно-дугового испарения и ионизации вещества (гадолиния), моделирующего уран, для разработки технологии плазменной сепарации отработавшего ядерного топлива
Введение в плазменные технологии и водородную энергетику
Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме (основы плазмохимии)
