RUSSIAN

Компьюторное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами. Курс лекций

By Юрчук С.Ю.

Book information

Publisher
Издательство "МИСИС"
Year
2013
ISBN
978-5-87623-662-3
Language
russian
Format
PDF
Filesize
23 MB (24505131 bytes)
Pages
45\45
Time added
2017-04-20 00:00:00
Инженерно-технические науки;Электроника и радиотех

Description

Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».;Гриф:Рекомендовано редакционно-издательским советом университета

Similar books