ENGLISH Plasma Etching. An Introduction By Dennis M. Manos and Daniel L. Flamm (Eds.) Book information PublisherAcademic Press Year1989 ISBN978-0-12-469370-8, 0-12-469370-9 Languageenglish FormatPDF Filesize7 MB (7280547 bytes) SeriesPlasma: materials interactions Pages478\478 Topic Physics › Plasma Physics Time added2013-11-27 15:26:00 Физика;Физика плазмы Similar books LIBRARY Metallic films for triggering vacuum-arc plasma sources PDF LIBRARY Стационарные электрические разряды с испаряющимся в вакууме электродом PDF LIBRARY Зондовый метод диагностики плазмы DJVU LIBRARY Холловский торцевой ускоритель плазмы с холодным катодом PDF LIBRARY Экспериментальное исследование процессов вакуумно-дугового испарения и ионизации вещества (гадолиния), моделирующего уран, для разработки технологии плазменной сепарации отработавшего ядерного топлива PDF LIBRARY Введение в плазменные технологии и водородную энергетику PDF LIBRARY Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме (основы плазмохимии) PDF LIBRARY Электрическая дуга отключения PDF
LIBRARY Экспериментальное исследование процессов вакуумно-дугового испарения и ионизации вещества (гадолиния), моделирующего уран, для разработки технологии плазменной сепарации отработавшего ядерного топлива PDF