RUSSIAN

Технологические процессы в микроэлектронике

Book information

Publisher
НГТУ
Year
2005
Language
russian
Format
RTF
Filesize
18 MB (18850048 bytes)
Pages
\289
Time added
2016-06-10 16:50:46

Description

В пособии описываются технологические процессы получения и очистки кристаллов полупроводников, методы получения окисных слоев кремния. Включено также описание лабораторных работ «Кристаллизационные методы очистки полупроводников» и «Анодное окисление кремния». Учебное пособие составлено на основании Государственного образовательного стандарта высшего профессионального образования.

Similar books