Physical vapor deposition of thin films
Book information
Description
Wiley, New York, 2000, 312 c.В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механизмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участвующие в процессе распыления. Завершает книгу глава об осаждении пленок.
Similar books
Metallic films for triggering vacuum-arc plasma sources
Стационарные электрические разряды с испаряющимся в вакууме электродом
Зондовый метод диагностики плазмы
DJVU
Холловский торцевой ускоритель плазмы с холодным катодом
Экспериментальное исследование процессов вакуумно-дугового испарения и ионизации вещества (гадолиния), моделирующего уран, для разработки технологии плазменной сепарации отработавшего ядерного топлива
Введение в плазменные технологии и водородную энергетику
Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме (основы плазмохимии)