Индукционный нагрев при производстве особо чистых материалов

Description

Л.: Машиностроение. Ленинградское отд-ние, 1980. — 64 с. — (Библиотечка высокочастотника-термиста).Описаны методы получения особо чистых материалов с применением индукционного нагрева, большое место уделено методам выращивания полупроводниковых монокристаллов и пленок, приведены упрощенные расчеты применяемых индукционных систем, определены требования, предъявляемые к источникам питания и системам автоматического регулирования, дано описание разработанного и внедренного на предприятиях оборудования для производства особо чистых материалов. Для инженеров, технологов, конструкторов и студентов.Предисловие.Получение монокристаллов кремния методом бестигельной зонной плавкиПроцесс бестигельной зонной плавки.Тепловые условия.Выбор частоты, индукционные системы.Особенности источников питания.Системы регулирования.Установки для бестигельной зонной плавки.Выращивание кристаллов кремния с пьедесталаВыращивание монокристаллов кремния с пьедестала.Выращивание прутков-подложек.Получение профильных монокристаллов.Групповое выращивание тонких прутков.Эпитаксиальное наращивание монокристаллических кремниевых слоевПроцесс эпитаксиального наращивания.Основные параметры процесса осаждения и их влияние на рост и совершенство структуры эпитаксиальных слоев.Установки типа «Слой» для эпитаксиального наращивания слоев.Получение монокристаллов окисных материалов методом вытягивания из расплава в тиглеТехнологические особенности процесса.Выбор источника питания.Средства контроля и автоматизации.Промышленные установки для получения монокристаллов высокотемпературных окислов.Получение плавленых окисных материалов с использованием индукционной плавки в холодном тигле (ИПХТ)Технологические возможности ИПХТ.Плавильно-кристаллизационный узел.Особенности работы лампового генератора.Установки для ИПХТ.Список литературы