Physics of Thin Films. Vol.14. Contemporary preparative techniques
Book information
Description
Academic Press, Boston, 1989, 260 c.В книге представлены такие большие главы:1) Реактивное распыление2) Плазменное окисление3) Катодное дуговое плазменное осаждение тонких пленок4) Подготовка подложек для осаждения пленок с использованием методик тлеющего разряда
Similar books
Metallic films for triggering vacuum-arc plasma sources
Стационарные электрические разряды с испаряющимся в вакууме электродом
Зондовый метод диагностики плазмы
DJVU
Холловский торцевой ускоритель плазмы с холодным катодом
Экспериментальное исследование процессов вакуумно-дугового испарения и ионизации вещества (гадолиния), моделирующего уран, для разработки технологии плазменной сепарации отработавшего ядерного топлива
Введение в плазменные технологии и водородную энергетику
Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме (основы плазмохимии)
