Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления
Book information
Description
Статья. Опубликована в журнале ВАНТ 2006. №5. Сер.: Плазменная электроника и новые методы ускорения (5), с.136-141.Исследуются сильноточные импульсные режимы работы планарной магнетронной распылительной системы (МРС) с образованием на поверхности распыляемой мишени катодных пятен. Технологические испытания показали, что скорость осаждения покрытий зависит от типа разряда в МРС, и эта зависимость в импульсных режимах более сильная, чем в постоянных. В осажденном покрытии не обнаружено наличие капель материала катода. Это обусловлено тем, что они испаряются под действием потоков заряженных частиц плотной плазмы. Предложена теоретическая модель, показывающая возможность испарения или уменьшения размеров определенной части капель в плазменном потоке вакуумной дуги. Показано, что эффективность испарения капельной фазы растет с увеличением плотности плазмы.
Similar books
Metallic films for triggering vacuum-arc plasma sources
Стационарные электрические разряды с испаряющимся в вакууме электродом
Зондовый метод диагностики плазмы
DJVU
Холловский торцевой ускоритель плазмы с холодным катодом
Экспериментальное исследование процессов вакуумно-дугового испарения и ионизации вещества (гадолиния), моделирующего уран, для разработки технологии плазменной сепарации отработавшего ядерного топлива
Введение в плазменные технологии и водородную энергетику
Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме (основы плазмохимии)