Исследование газофазного осаждения пленок аморфного углерода с ионно-плазменной стимуляцией процесса
Book information
Description
Статья. Опубликована в Материалы XXXIX научно-технической конференции по итогам работы профессорско-преподавательского состава СевКавГТУ за 2009 год. Том1. Естественные и точные науки. Технические и прикладные науки. Ставрополь: СевКавГТУ, 2010. 2с.Прямое осаждение пленок непосредственно из пучков ионов является идеальным процессом, поскольку позволяет управлять энергией частиц осаждаемого материала [1,2]. Однако для реализации этого процесса требуется специальное оборудование в виде автономного источника ионов и его блока питания. Кроме того, для напыления пленок аморфного углерода (a-C) ионно-плазменным методом, может потребоваться проведение НИОКР, сложных пуско-наладочных работ. В связи с этим актуален вопрос о проведении исследований, которые будут полезны при составлении технологического процесса ионно-плазменного осаждения a-C пленок.Цель работы: установить основные особенности ионно-плазменного осаждения пленок, выявить определяющие параметры метода и установить их влияние на характеристики синтезируемых пленок.
Similar books
Metallic films for triggering vacuum-arc plasma sources
Стационарные электрические разряды с испаряющимся в вакууме электродом
Зондовый метод диагностики плазмы
DJVU
Холловский торцевой ускоритель плазмы с холодным катодом
Экспериментальное исследование процессов вакуумно-дугового испарения и ионизации вещества (гадолиния), моделирующего уран, для разработки технологии плазменной сепарации отработавшего ядерного топлива
Введение в плазменные технологии и водородную энергетику
Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме (основы плазмохимии)