RUSSIAN

Мощный ионный пучок и его промышленное применение

By et al. , Remnev G.E. , Opekounov M.S. , Isakov I.F. , Matvienko V.M. , Ryzhkov V.A.

Book information

Language
russian
Format
DOC
Filesize
537 kB (549376 bytes)
Pages
\0
Library
twirpx
Time added
2017-08-07 07:01:42
Машиностроение и материалообработка;Высокоэнергети

Description

Литературный перевод. High intensity pulsed ion beam sources and their industrial applications. Elseiver. Surface and Coatings Technology 114(1999) 206–212 В настоящей работе представлено исследование по промышленному применению мощных ионных пучков (МИП) выполненное в Институте Ядерной Физики Томского Политехнического Университета (NPI TPU) и Научном Промышленном Предприятии ‘Linetron’, Н.-Новгород. Наиболее интересные результаты были получены для: $ модификации поверхности МИП инструмента, для повышения его износостойкости; $ осаждения тонких металлических, композитных и алмазоподобных углеродных пленок (АПП); $ короткоимпульсной имплантации полупроводников. Показано что ионные пучки с низкой плотностью энергии (106–109 Вт/см2)имеют перспективы в промышленном применении. В статье представлено короткое описание взаимодействия МИП-твердое тело и основные параметры МИП используемые в исследовании и их влияние на свойства обрабатываемых образцов.

Similar books