Процессы микро- и нанотехнологий: метод. пособие к курсу лекций

Description

Данное учебное пособие предназначено для студентов физико-математического факультета, направлений подготовки: 210600 Нанотехнология; 210100 Электроника и наноэлектроника. Рекомендуется в качестве дополнительного материала к курсу лекций по дисциплине Процессы микро и нанотехнологий. Изучение данной дисциплины направлено на ознакомление с кругом актуальных задач современной электроники. В издании рассматриваются основные методы формирования топологии элементов микроэлектроники и нанесения металлических контактов 1.1. ОСНОВНЫЕ ОПРЕДЕЛЕНИЯ 1.1. ОСНОВНЫЕ ОПРЕДЕЛЕНИЯ 1.2. ФОТОШАБЛОНЫ 1.3. ФОТОРЕЗИСТЫ 1.3.1. Основные требования к фоторезистам 1.3.2. Формирование фоторезистивных пленок 1.3.3. Роль поверхности в процессе фотолитографии 1.3.4. Методы формирования фоторезистивных покрытий 1.3.5. Сушка фоторезистивных покрытий 1.4. ПЕРЕНОС ИЗОБРАЖЕНИЯ В СИСТЕМЕ ФОТОШАБЛОН – ФОТОРЕЗИСТ 1.4.1. Оптические явления в системе фотошаблон – фоторезист – подложка 1.4.2. Процессы проявления фоторезистов 1.5. ПРОЦЕССЫ ТРАВЛЕНИЯ 1.6. УДАЛЕНИЕ ФОТОРЕЗИСТОВ И ОЧИСТКА ПОДЛОЖЕК 2.1. Основные стадии и особенности процесса нанесения вакуумных покрытий 2.2. Классификация методов осаждения вакуумных покрытий 2.3. Испарение атомов металла 2.4. Получение покрытий резистивным испарением 2.5. Электронно-лучевое нанесение вакуумных покрытий 2.6. Лазерное нанесение покрытий 2.7. Электродуговое нанесение покрытий