CHINESE

衍射极限附近的光刻工艺

By 伍强

Book information

Publisher
清华大学出版社
Year
2020
ISBN
7302537429, 9787302537427
Google Books ID
48bHzgEACAAJ
Language
chinese
Format
PDF
Filesize
134 MB (140011252 bytes)
Pages
672\676
Scanned
yes
Time added
2024-07-31 03:13:15

Description

本书以光刻工艺为主线,有机地将光刻设备,光刻材料,光刻成像的理论计算,光刻工艺中各种建模思想和推导,芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起,给读者一个整体的图景.

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